ऑर्गेनोमेटेलिक फिल्म कॅपेसिटरचा सर्वात मोठा फायदा म्हणजे ते स्व-उपचार करणारे आहेत, ज्यामुळे हे कॅपेसिटर आज सर्वात वेगाने वाढणाऱ्या कॅपेसिटरपैकी एक बनतात.

मेटलाइज्ड फिल्म कॅपेसिटरच्या स्व-उपचारासाठी दोन भिन्न यंत्रणा आहेत: एक म्हणजे डिस्चार्ज स्व-उपचार;दुसरे म्हणजे इलेक्ट्रोकेमिकल स्व-उपचार.पूर्वीचा उच्च व्होल्टेजवर होतो, म्हणून त्याला उच्च-व्होल्टेज स्व-उपचार म्हणून देखील संबोधले जाते;कारण नंतरचे खूप कमी व्होल्टेजवर देखील उद्भवते, याला बर्‍याचदा लो-व्होल्टेज स्व-उपचार म्हणून संबोधले जाते.

डिस्चार्ज स्व-उपचार

डिस्चार्ज सेल्फ-हिलिंगची यंत्रणा स्पष्ट करण्यासाठी, असे गृहीत धरा की दोन मेटालाइज्ड इलेक्ट्रोडमधील सेंद्रिय फिल्ममध्ये आर प्रतिरोधकता आहे. दोषाच्या स्वरूपावर अवलंबून, तो धातूचा दोष, अर्धसंवाहक किंवा खराब असू शकतो. इन्सुलेटेड दोष.साहजिकच, जेव्हा दोष आधीच्यापैकी एक असेल, तेव्हा कॅपेसिटरने कमी व्होल्टेजवर स्वतःला डिस्चार्ज केले असेल.हे केवळ नंतरच्या प्रकरणात आहे की तथाकथित उच्च व्होल्टेज डिस्चार्ज स्वतःला बरे करतो.

डिस्चार्ज सेल्फ-हीलिंगची प्रक्रिया अशी आहे की मेटलाइज्ड फिल्म कॅपेसिटरला व्होल्टेज V लावल्यानंतर लगेच, एक ओमिक प्रवाह I=V/R दोषातून जातो.म्हणून, वर्तमान घनता J=V/Rπr2 मेटलायझ्ड इलेक्ट्रोडमधून वाहते, म्हणजे, दोषाचे क्षेत्र जितके जवळ असेल (आर जितके लहान असेल) आणि तिची वर्तमान घनता मेटॅलाइज्ड इलेक्ट्रोडमध्ये जास्त असेल.दोष विजेच्या वापरामुळे होणार्‍या जौल उष्णतेमुळे W=(V2/R)r, अर्धसंवाहक किंवा इन्सुलेटिंग दोषाचा प्रतिकार R झपाट्याने कमी होतो.त्यामुळे, वर्तमान I आणि वीज वापर W झपाट्याने वाढतो, परिणामी, वर्तमान घनता J1= J=V/πr12 या प्रदेशात झपाट्याने वाढते जेथे मेटालाइज्ड इलेक्ट्रोड दोषाच्या अगदी जवळ आहे आणि त्याची ज्युल उष्णता मेटालाइज्ड वितळू शकते. प्रदेशातील थर, ज्यामुळे इलेक्ट्रोडमधील चाप येथे उडतो.चाप त्वरीत बाष्पीभवन होते आणि वितळलेल्या धातूला फेकून देते, ज्यामुळे धातूच्या थराशिवाय इन्सुलेटेड अलगाव झोन बनतो.चाप विझवला जातो आणि स्वत: ची उपचार प्राप्त होते.

डिस्चार्ज सेल्फ-हिलिंग प्रक्रियेत ज्युल उष्णता आणि चाप निर्माण झाल्यामुळे, दोषाभोवतीचे डायलेक्ट्रिक आणि डायलेक्ट्रिक पृष्ठभागाच्या इन्सुलेशन अलगाव क्षेत्राला थर्मल आणि इलेक्ट्रिकल नुकसान अपरिहार्यपणे नुकसान होते आणि त्यामुळे रासायनिक विघटन, गॅसिफिकेशन आणि कार्बनीकरण आणि अगदी यांत्रिक नुकसान होते.

वरील वरून, एक परिपूर्ण डिस्चार्ज स्व-उपचार साध्य करण्यासाठी, दोषाभोवती एक योग्य स्थानिक वातावरण सुनिश्चित करणे आवश्यक आहे, म्हणून मेटलाइज्ड ऑर्गेनिक फिल्म कॅपेसिटरची रचना अनुकूल करणे आवश्यक आहे जेणेकरुन वाजवी माध्यम मिळवण्यासाठी दोष, मेटलाइज्ड लेयरची योग्य जाडी, हर्मेटिक वातावरण आणि योग्य कोर व्होल्टेज आणि क्षमता.तथाकथित परिपूर्ण डिस्चार्ज स्वयं-उपचार हे आहे: स्वयं-उपचार करण्याची वेळ खूप कमी आहे, स्वयं-उपचार ऊर्जा लहान आहे, दोषांचे उत्कृष्ट अलगाव, आसपासच्या डायलेक्ट्रिकला कोणतेही नुकसान नाही.चांगले स्व-उपचार साध्य करण्यासाठी, सेंद्रिय फिल्मच्या रेणूंमध्ये कार्बन आणि हायड्रोजन अणूंचे कमी प्रमाण आणि मध्यम प्रमाणात ऑक्सिजन असणे आवश्यक आहे, जेणेकरुन जेव्हा सेल्फ-हिलिंग डिस्चार्जमध्ये फिल्म रेणूंचे विघटन होते तेव्हा नाही. कार्बनची निर्मिती होते आणि नवीन प्रवाहकीय मार्गांची निर्मिती टाळण्यासाठी कार्बनचे संचय होत नाही, उलट CO2, CO, CH4, C2H2 आणि इतर वायू वायूच्या तीव्र वाढीसह कंस विझवण्यासाठी तयार होतात.
स्वत: ची उपचार करताना दोषाच्या सभोवतालच्या माध्यमांना इजा होणार नाही याची खात्री करण्यासाठी, स्वत: ची उपचार ऊर्जा खूप मोठी नसावी, परंतु खूप लहान देखील नसावी, दोषभोवती मेटलायझेशन थर काढून टाकण्यासाठी, इन्सुलेशनची निर्मिती (उच्च प्रतिकार) झोन, स्वत: ची उपचार प्राप्त करण्यासाठी, दोष वेगळे केले जाईल.अर्थात, आवश्यक स्वयं-उपचार ऊर्जा मेटलायझेशन लेयरच्या धातूशी, जाडी आणि वातावरणाशी जवळून संबंधित आहे.म्हणून, स्व-उपचार शक्ती कमी करण्यासाठी आणि चांगले स्व-उपचार साध्य करण्यासाठी, कमी वितळण्याच्या बिंदू असलेल्या धातूंचे सेंद्रिय फिल्म्सचे मेटालायझेशन केले जाते. याव्यतिरिक्त, मेटालायझेशन थर असमानपणे जाड आणि पातळ नसावा, विशेषत: ओरखडे टाळण्यासाठी, अन्यथा. , इन्सुलेशन पृथक्करण क्षेत्र फांद्यासारखे होईल आणि चांगले स्व-उपचार साध्य करण्यात अयशस्वी होईल.CRE कॅपेसिटर सर्व नियमित फिल्म्स वापरतात, आणि त्याच वेळी कडक इनकमिंग मटेरियल इन्स्पेक्शन मॅनेजमेंट करतात, सदोष फिल्म्स दारात ब्लॉक करतात, जेणेकरून कॅपेसिटर फिल्म्सच्या गुणवत्तेची पूर्ण हमी मिळते.

डिस्चार्ज स्व-उपचार व्यतिरिक्त, आणखी एक आहे, जो इलेक्ट्रोकेमिकल स्व-उपचार आहे.पुढील लेखात या यंत्रणेची चर्चा करू.